“最近咱们西北机电所不是在搞单晶炉嘛，单晶炉是用来造硅材料、造芯片的，等原材料造出来的时候，要进行刻蚀就得用到光刻机、刻蚀机。”
“这两种设备就需要使用高精度的空气轴承。”
“以前我们想都不敢想，现在总算是有机会了。”
“原来如此！”
李想感慨地点了点头，这的确是一件值得庆祝的事情。
但一旁的陈念心里却没什么波动。
因为这事儿他早就知道了.
空气轴承技术的突破，事实上就是二十二号项目的衍生技术，还给他带来了源点的收益。
不过，虽然不惊喜，但他也不会在这种时候去破坏气氛，只是静静地吃着饭，听乔麦和李想闲聊。
“所以如果真的要造光刻机，我们现在能造出来吗？”
李想继续问道。
“呃这块我其实不太懂，但是光刻机里面有个结构确实在我们的研究范围里，就是对准系统。”
“啥叫对准系统？”
“简单来说，光刻的过程就是用光线雕刻的过程，那要保证准确，就必须保证你的‘刻刀’落在‘画板’正确的位置上，而保证这一点，就是对准系统要做的事情。”
“这个过程很复杂，涉及到的结构也很多，我们现在用的还是手动对准系统，跟国外大公司的技术差距很大，估计短时间内也没有突破的可能性.”
听到这里，陈念的眉头突然皱了起来。
他抬起头，开口问道：
“啥？我们现在的光刻机用的是手动对准系统？”
在他的印象里，国产光刻机虽然精度差、效率低，但基本的功能还是齐全的。
毕竟这玩意儿1974年就诞生了，后来经过1445所的不断优化升级，功能性还是完整的，怎么搞来搞去，还在用着手动对准吗？
这倒是涉及到他的知识盲区了。
听到他的问题，乔麦同样惊讶：
“啊？你不知道吗？也对，你们应该不会太关注这块。”
“但现在我们的对准系统确实很差，之前1445所实验了很多种方法，也没有解决自动对准的问题-——同样的，精度也不够。”
“1445所用的不是同轴 离轴双对准的方法？”
陈念大为惊讶，因为某种原因，这玩意儿在他的前一世铺天盖地地报道，连他这个门外汉都看过不少，搞的他还以为国内早就解决了对准系统的问题呢。
“不是啊，离轴对准的技术难度很高，设计原理也比较复杂，我们没有搞出来的”
“这玩意儿复杂？？”
“你说它制造难度大我还可以接受，但是原理复杂.不就是光衍射的原理吗？”
话刚说完，陈念的脑子里突然灵光一闪，想起了关于以前他看过的报道的更多细节。
对啊！
最早的离轴对准技术，是ASML公司1999年才发明、2001年才算正式运用的技术，而自己所说的同轴 离轴的技术，是07年出现的。
现在国内确实还没有机会接触到最新的光刻机，自然也没有能力去复刻这种技术。
所以，乔麦不知道、或者说国内没人知道，似乎是正常的？
但自己还真知道啊！
哪怕不借助系统也能知道！
因为它的原理，真就没有乔麦所预计的那么复杂。
想到这里，陈念没等乔麦回答便继续说道：
“离轴对准技术的原理其实并不复杂，说到底，它也就是利用固定波长的光线来进行衍射照射，然后标记出参考光栅后，再利用摩尔东文来校准，当硅片跟光栅对齐之后，对准就基本完成了。”
“在这个过程中最难的不是标记，而是维持系统的稳定，具体的操作方法.”
听着陈念娓娓道来，乔麦的神情渐渐变得严肃。
她眉头紧皱，默默在脑子里推演陈念所说的技术操作，但还没等她推演完，陈念却突然停了下来。
“咋啦？怎么不继续了？”
乔麦疑惑地问道。
“额，后面不知道了，我也是偶然从一本杂志上看到的.”
“哦，这样.”
“你的方法好像真的没什么问题，而且原理也没那么复杂就跟你说的一样，这种技术难的不是原理，而是怎么实现。”
“不过，有理论总比没有理论好啦，说不定过段时间，我们就能实现这个技术了。”
乔麦的表情有些遗憾，但陈念却是暗自庆幸。
嘿，还好收住了！
他本来以为这就是一个很简单的技术，根本涉及不到保密要求。
但没想到，话还没说一半，系统先跳出来了！
【TSI Athena对准系统】
【解析源点需求：3.6】
【解析源点需求：3.2】
【解析源点需求：2.1】
伴随着解析源点需求不断降低的，是自己持有的源点数不断升高。
而当解析源点需求降到1.5个点的时候，自己收到的源点数，则直接上升了0.7个点
这时候陈念才想起来，这玩意儿对现在的世界来说，它就是知识增量啊！
所以，暂时还说不得，至少不能说给不在保密序列里的乔麦和李想听.
等回去以后，找个时间写下来，丢给光电所那些专家研究去吧
不过话说回来，加上0.7个源点，数字阵列雷达的消耗一下子就补足了。
他也不磨叽，直接启动解析。
一阵强烈的眩晕之后，数字阵列雷达的技术障碍彻底扫除！
随后，他抬起头看向面前的乔麦，心里暗暗想道：
这姐们儿是不是有点锦鲤属性啊？
每次见到她都有点意外收获，虽然不是她带来的，但两次都是她起的头。
如果这样的事情再发生第三次的话，就想想办法给她弄组里供着，当个吉祥物也不错.
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